Компания Intel Foundry стала первым производителем, выпустившим коммерческую продукцию, изготовленную с использованием литографии High NA EUV от ASML. Речь идет о процессорах Intel Core Ultra Series 3 (Panther Lake), созданных по техпроцессу Intel 18A. На заводе в Орегоне отдельные слои этих чипов теперь проходят двойную квалификацию на платформе High NA EUV — параллельно с традиционной NXE-системой, причем показатели выхода годных изделий остаются на том же уровне. Сейчас литография применяется на выбранных слоях для сбора данных и оптимизации настроек, производительности и производственных процедур перед более широким внедрением в будущих техпроцессах.
High NA EUV представляет собой следующее поколение экстремальной ультрафиолетовой литографии, обеспечивающее более высокое разрешение и точность управления при формировании микроскопических транзисторов. Это позволит создавать более плотные и сложные чипы, необходимые для развития вычислительных систем и искусственного интеллекта. Достижение стало результатом многолетнего сотрудничества Intel и ASML. Теперь Panther Lake на Intel 18A, использующие High NA EUV для отдельных слоев, позволяют компании накапливать производственный опыт, не снижая общей эффективности.
Руководство ASML подчеркивает, что внедрение технологии открывает новые возможности для масштабирования и ускорит прогресс в области ИИ. В Intel уверены, что квалификация High NA EUV на продуктах Intel 18A позволяет одновременно поддерживать текущий выпуск и оценивать потенциал технологии для будущих поколений. Таким образом, компания демонстрирует, как передовая литография может переходить от разработки к крупносерийному производству, задавая стандарты для всей полупроводниковой индустрии.
Anthropic объединилась с Samsung для создания ИИ-чипа.
